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Hakuto 離子束刻蝕機 IBE

伯東 Hakuto 日本原裝設計制造離子束刻蝕機 IBE (離子蝕刻機) 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 納米級別材料的表面刻蝕, 刻蝕均勻性 ≤±5%. IBE 刻蝕機幾乎滿足所有材料的刻蝕. 例如磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復合半導體材料, 廣泛應用于 RF 射頻器件, MEMS 傳感器, 磁性器件 …, 滿足研發(fā)和量產需要. IBE 可用于反應離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料.

自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計交付約 500套離子刻蝕機. 刻蝕機配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵. 伯東公司超過 50年的離子束刻蝕市場經驗, 擁有龐大的安裝基礎和經過市場驗證的刻蝕技術!

離子束刻蝕機 IBE

適用于 RF 射頻器件, MEMS 傳感器, 磁性器件等刻蝕工藝, 滿足研發(fā)和量產需求

型號

4 IBE

7.5 IBE

16 IBE

20 IBE-C

MEL 3100

樣品數量尺寸

4”φ, 1片

4”φ, 1片

6”φ, 1片

4”φ, 6片
6”φ, 4片

3”φ-6”φ,1片

均勻性

≤±5%

≤±5%

≤±5%

≤±5%

≤±5%

離子蝕刻機 10 IBE

小型離子蝕刻機, 適用于科研院所, 實驗室研究
樣品數量尺寸: 4”φ, 1片

離子刻蝕機

 

離子蝕刻機 20 IBE-C

適合中等規(guī)模量產使用的離子刻蝕機
樣品數量尺寸: 4”φ, 6片 或 6”φ, 4片

離子蝕刻機 20 IBE-J

適合大規(guī)模量產使用的離子刻蝕機

 

 

 

全自動離子刻蝕機 MEL 3100

全自動離子刻蝕機,
樣品數量尺寸: 3”φ - 6”φ,1片

全自動離子刻蝕機

 

離子蝕刻機 4 IBE

小型離子蝕刻機, 適用于科研院所, 實驗室研究
樣品數量尺寸: φ4” X1
配置考夫曼離子源, 德國 Pfeiffer 分子泵和旋片泵

離子刻蝕機

 

離子蝕刻機 7.5 IBE

小型離子蝕刻機, 適用于科研院所, 實驗室研究
樣品數量尺寸: 4”φ, 1片
配置考夫曼離子源 KDC 75

離子蝕刻機

 

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