霍爾離子源應用于光學鍍膜機加裝, 實現預清潔 PC, 輔助鍍膜 IBAD
光學鍍膜 optics coating, 在現代生產被廣泛應用, 例如玻璃鍍膜, 鏡片鍍膜, 顯微鏡鏡片鍍膜, 裝飾燈罩鍍膜都是生產工藝之一. 蒸發(fā)鍍膜作為一種常見的制程, 比較容易出現膜層不均勻, 或是產品膜層脫落的現象, 使用美國 KRI考夫曼離子源可以解決此類問題, 因此美國 KRI 考夫曼霍爾型離子源廣泛加裝在各類蒸發(fā)鍍膜機中

離子源輔助鍍膜客戶案例一: 廈門某光學鍍膜企業(yè), 該企業(yè)使用日本 Shincron 真空鍍膜機, 鍍膜腔體約 2 m³  , 鍍膜機加裝霍爾離子源 EH 4200 起到預清潔 PC及輔助鍍膜 IBAD 的作用.

離子源輔助鍍膜具體操作, 霍爾離子源預清潔 PC +輔助鍍膜 IBAD : 由于膜層表面很光滑,在鍍膜時會產生膜層脫落現象, 預清潔就是將膜層表面用大的離子如 Ar 打擊表面, 使得制程物能吸附在表面上. 加裝KRI霍爾離子源起到預清潔作用, 在預清潔后開啟離子源輔助鍍膜 IBAD, 膜層厚度均勻性及附著牢固度都明顯提高。
工作示意圖如下, KRI離子源覆蓋面


使用專業(yè)測膜記號筆, 可以明顯看出加裝 KRI 離子源前后有很大的不同


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發(fā)展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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