上海伯東美國(guó) KRI 考夫曼霍爾型離子源 EH 5500 成功應(yīng)用于手機(jī)殼顏色鍍膜和3D玻璃鍍膜, 湖南某手機(jī)鍍膜制造商經(jīng)過(guò)我司推薦采用大尺寸考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產(chǎn)設(shè)備 2050 mm 蒸鍍機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) LED-DBR 離子輔助鍍膜.

考夫曼離子源客戶(hù)案例: 國(guó)內(nèi)某手機(jī)鍍膜制造商
1. 離子源應(yīng)用: 手機(jī)殼顏色鍍膜, 3D 玻璃鍍膜生產(chǎn).
2. 系統(tǒng)功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).
3. 離子源: 采用美國(guó)考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界較高等級(jí), 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設(shè)計(jì)所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機(jī)中大范圍的載具 (substrate holder), 無(wú)論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到更高生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過(guò) KRI EH 5500 霍爾源實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的手機(jī)殼顏色鍍膜及 3D 玻璃鍍膜無(wú)論是環(huán)境脫膜測(cè)試, 耐刮測(cè)試, 膜層應(yīng)力測(cè)試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.

上海伯東美國(guó) KRI 霍爾離子源 EH 5500 優(yōu)點(diǎn):
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
氣體分子離子轉(zhuǎn)化率高, 離子束工作穩(wěn)定
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
模塊化設(shè)計(jì), 保養(yǎng)快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
全自動(dòng)控制設(shè)計(jì), 操作簡(jiǎn)易
低耗材成本, 安裝簡(jiǎn)易

                   EH 5500 離子源本體

                    EH 5500 離子源控制器

上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國(guó)總代理. 美國(guó)考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使濺射時(shí)靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶(hù)濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
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