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KRi 考夫曼離子源典型應(yīng)用 IBF 離子束拋光工藝
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KRi 考夫曼離子源典型應(yīng)用 IBF 離子束拋光工藝

KRi 考夫曼離子源典型應(yīng)用 IBF 離子束拋光工藝
離子束拋光加工 Ion Beam Figuring, IBF 已逐漸成為光學(xué)零件表面超精加工常用的最后一道工藝, 離子源是離子束拋光機(jī)的核心部件. 上海伯東美國 KRi 直流電源式考夫曼離子源 KDC 系列成功應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī)及晶體硅片離子束拋光機(jī).

考夫曼離子源通過控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使拋光刻蝕速率更快更準(zhǔn)確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 均勻性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼離子源內(nèi)置型的設(shè)計(jì)更符合離子源在離子拋光機(jī)內(nèi)部的移動(dòng)運(yùn)行. 上海伯東是美國 KRi 考夫曼離子源中國總代理.

考夫曼離子源 KDC 10 安裝于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī)

1. 基材: 100 mm 光學(xué)鏡片
2. 離子源條件: Vb: 800 V ( 離子束電壓 ), Ib: 84 mA ( 離子束電流 ) , Va: -160 V ( 離子束加速電壓 ), Ar gas ( 氬氣 ).
離子源 KDC 10
 

離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖
KRI 離子源應(yīng)用

離子束拋光后平坦度影像呈現(xiàn)圖KRI 離子源應(yīng)用


考夫曼離子源 KDC 40 安裝于晶體硅片離子束拋光機(jī)
1. 基材: 300 mm 晶體硅片
2. 離子源條件: Vb: 1000 V ( 離子束電壓 ), Ib: 69 mA ( 離子束電流 ), Va: -200 V ( 離子束加速電壓 ) Ar gas ( 氬氣 )
離子源 KDC 40
 

離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖
離子源離子拋光

離子束拋光后平坦度影像呈現(xiàn)圖離子源離子拋光

 
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 系列根據(jù)客戶離子拋光工藝條件提供如下型號:

型號

KDC 10

KDC 40

KDC 75

KDC 100

KDC 160

Discharge 陽極

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

離子束流

>10 mA

>100 mA

>250 mA

>400 mA

>650 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

1 cm Φ

4 cm Φ

7.5 cm Φ

12 cm Φ

16 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

 

流量

1-5 sccm

2-10 sccm

2-15 sccm

2-20 sccm

2-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長度

11.5 cm

17.1 cm

20.1 cm

23.5 cm

25.2 cm

直徑

4 cm

9 cm

14 cm

19.4 cm

23.2 cm

中和器

燈絲


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
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