射頻等離子體源 RF2100ICP閱讀數(shù): 2581

射頻等離子體源 RF2100ICP Plasma Source
上海伯東代理美國(guó) KRi 考夫曼品牌離子源, 推出 RF2100ICP Plasma Source 射頻等離子體源及配套控制器, RF2100 等離子體放電, RFICP 在 2MHz, 電子自動(dòng)匹配, 固定匹配網(wǎng)絡(luò). 離子源 RF2100ICP 適用于預(yù)清潔, 氧化和氮化處理, 輔助沉積, 以及各類(lèi)半導(dǎo)體材料, 磁性金屬等的制備.
KRi RF2100 ICP 射頻等離子體源特性
通過(guò) RFICP 放電激活等離子體: 產(chǎn)生 100% O?, N? 反應(yīng)等離子束
寬束發(fā)散等離子束(準(zhǔn)中性): 大出口平面孔徑, 提高覆蓋范圍和均勻性
輸出低能量離子: 最大限度地減少襯底損壞
無(wú)提取柵網(wǎng): 減少?gòu)?fù)雜性, 降低維護(hù)成本和潛在污染源
可靠的等離子點(diǎn)火電路: 專用電子源僅在等離子體啟動(dòng)時(shí)開(kāi)啟
離子源自動(dòng)控制和調(diào)節(jié): 自動(dòng)排序和射頻阻抗匹配
無(wú)水冷卻: 消除真空中水泄漏的風(fēng)險(xiǎn)
適用于不同的轟擊距離: 一般為 15 至 45厘米
KRi RF2100 ICP 射頻等離子體源參數(shù)
Dishcharge |
電感耦合 |
RF discharge power |
600W |
輸出電流 |
> 500mA (取決于功率,壓力和氣體) |
通 Ar 能量范圍 |
5-50V (取決于功率和壓力) |
等離子尺寸@源打開(kāi) |
14cmφ |
離子束形狀 |
發(fā)散 |
點(diǎn)火 |
電子源 |
氣體 |
Ar, O?, N?, H?/Ar blend |
壓力 |
0.5-10mTorr (取決于氣體種類(lèi)) |
氣體流量 |
5-60sccm (取決于抽速, 氣體, 壓力和功率) |
冷卻 |
無(wú)水冷卻 |
一般高度 |
9.25” (23.5cm) |
直徑 |
7.675” (19.5cm |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,?霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng)?40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源中國(guó)總代理.
若您需要進(jìn)一步的了解?KRi 離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 葉小姐????????????????????????????????? 臺(tái)灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267??????????? T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490???????????????????????? ?F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267?????????????????????? M: +886-975-571-910
現(xiàn)部分品牌誠(chéng)招合作代理商, 有意向者歡迎聯(lián)絡(luò)上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!??