KRi 直流磁控濺射電源
上海伯東代理美國 KRi 直流磁控濺射電源適用于各品牌磁控濺射鍍膜機, 低壓直流電源 0-1000 V, 穩(wěn)定的控制磁控濺射陰極. 真正的電弧檢測和抑制. KRi 直流磁控濺射電源可以減少基材和目標(biāo)的損壞, 增加沉積時間.


KRi 直流磁控濺射電源特點:
真正的電弧檢測和抑制: <100 nsec 電弧檢測
最小電弧能量:能量:<1mJ : 減少基材和目標(biāo)的損壞, 減少粒子生成, 增加沉積時間
從 25 到 1500W 穩(wěn)定的輸出功率
電壓, 電流和功率調(diào)節(jié)模式
可調(diào)運行定時器, 可調(diào)功率斜坡
配方存儲多達 7個單獨的目標(biāo)
KWHr 計數(shù)器時間限制
緊湊設(shè)計: 僅需一個單元
0-1000V 和 0.4A 工作范圍: 滿額定功率可適用于大阻抗范圍
大阻抗范圍: 不需要在整個范圍內(nèi)更換變壓器分接
可調(diào)電弧處理參數(shù): 后電弧檢測延遲時間; 重新啟動前的電弧檢測輸出斷開時間
弧度計數(shù)器: 目標(biāo)條件和工藝環(huán)境的指示

KRi 直流磁控濺射電源參數(shù):

產(chǎn)品	KRI 直流磁控濺射電源 1.5kW
型號	標(biāo)準(zhǔn)型
輸入功率	50-60 Hz / singleФ/ 100-240 VAC
全功率阻抗范圍	1:7 (94-667 ohms)
最大 V/I	1000V / 4A
點火 V	1000V
輸出連接器	HN
認證	CE & NRTL
電弧抑制	是
電弧能量	< 1mJ
弧度計數(shù)器	是
尺寸: 高X寬X深	4.44 X 48.3 X 50 cm
重量	8.2 kg
遠程控制	analog & RS 232

提供三種規(guī)格滿足不同的濺射應(yīng)用

規(guī)格	最大 V/I
KRI 直流磁控濺射電源 1.5kW	1000V, 4A
KRI 直流磁控濺射電源 1.0kW	1000V, 3A
KRI 直流磁控濺射電源 0.5kW	1000V ,2A

KRi 直流磁控濺射電源典型應(yīng)用
金屬磁控濺射,  反應(yīng)膜層濺射



上海伯東美國 KRi 提供的離子源模塊化電源控制器, 可以操作各種離子, 等離子體和電子源, 用于在等離子體處理中, 輸出穩(wěn)定和可重復(fù)功率的動態(tài)負載. 可以在惡劣的環(huán)境中正常運轉(zhuǎn), 易于系統(tǒng)集成.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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