Atonarp Aston 質(zhì)譜儀 ALD 氣體分析
上海伯東日本 Atonarp Aston 質(zhì)譜儀在 -4 mbar 真空下進(jìn)行 ALD 工藝氣體分析, 與傳統(tǒng)殘余氣體分析儀對(duì)比, Aston 質(zhì)譜儀可選電感耦合等離子體源 ICP, 使用壽命更長(zhǎng), 快速進(jìn)行ALD 氣體分析.

Atonarp Aston 質(zhì)譜儀 ALD 氣體分析優(yōu)勢(shì)
更快的速度, 更高的靈敏度 PPB 級(jí)別, 為 ALD 優(yōu)化產(chǎn)量和安全管理提供支持
Aston 質(zhì)譜儀可以在復(fù)雜的原位半導(dǎo)體制造過程中進(jìn)行定量, 快速的氣體分析
提供實(shí)時(shí)的, 化學(xué)特定的, 可行的見解
提供耐腐蝕性氣體和冷凝物型號(hào)



適用于 ALD 氣體分析的 Aston 質(zhì)譜儀基本參數(shù)

型號(hào)	Aston Impact-300	Aston Impact-300DP	Aston Plasma -300	Aston Plasma -300DP
質(zhì)量分離	四級(jí)桿
離子發(fā)生器	電子電離 EI	電子電離EI	電子電離 EI 電感耦合等離子體源 ICP	電子電離 EI 電感耦合等離子體源 ICP
檢測(cè)器	法拉第杯 / 掃描電鏡
真空系統(tǒng)	渦輪分子泵	渦輪分子泵 隔膜泵	渦輪分子泵	渦輪分子泵 隔膜泵
質(zhì)量范圍	2-285 amu
檢測(cè)限	100 ppb
精度	0.5%
可重復(fù)性	+/-0.5%
穩(wěn)定性	+/-0.5% over 24 Hr
耐腐蝕性氣體	輕微	輕微	耐腐蝕	耐腐蝕
耐副產(chǎn)物氣體	是
高速以太網(wǎng)	是
氣體壓力覆蓋面廣	是
軟件	數(shù)據(jù)分析, 數(shù)量分析

上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™, 通過使用分子傳感技術(shù), 提供半導(dǎo)體制程中  ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷, 為半導(dǎo)體過程控制提供解決方案, 提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝 Aston, 可在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!



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